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      《大话集成电路24》刻蚀技术:光刻之后,芯片生产的第二道技术坎

      视频简介 原创

      在集成电路的制造过程中,一共有三个同等重要的环节,分别是光刻、刻蚀和薄膜淀积。相比于光刻,刻蚀的知名度就要小了很多,但它也是一道技术含量很高的加工步骤,不如来一起了解一下吧。