【简介】本组的作品深入浅出地介绍了了极紫外光刻（EUV）技术。文章介绍了EUV技术的必要性、光源产生原理、光学系统设计以及面临的挑战。尽管我国在EUV光刻机领域面临挑战，但以华科大为代表的研究机构已在放大器等重要元件领域实现了突破。通过这篇文章的介绍，我们可以意识到EUV技术不仅是光刻技术的顶峰，也体现了国家科研协同创新能力。本组的视频则以文章为基础，补充了图片和展示视频，并以更加生动的形式阐述了这一领域的相关信息。

来源: 华中科技大学武汉光电国家研究中心